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如何优化扫描电镜的曝光时间以提高成像质量？

优化扫描电镜（SEM）的曝光时间需要在信噪比（SNR）、分辨率、样品损伤和成像时间之间取得平衡。

扫描电镜（SEM）光束偏移会导致成像不清晰、分辨率下降、甚至样品漂移。

扫描电镜在对磁性材料（如铁、钴、镍及其合金）成像时，可能会受到磁场干扰，导致成像质量下降。

扫描电镜（SEM）样品是否可以重复使用，取决于以下几个因素：

在扫描电子显微镜（SEM）成像过程中，样品可能会受到污染，导致图像质量下降或影响分析结果。

扫描电子显微镜（SEM）的成像过程主要依赖于聚焦电子束扫描样品表面，并通过探测产生的电子信号来构建图像。

扫描电子显微镜（SEM）可以用于表面粗糙度分析，但其适用性取决于具体的测量需求和样品特性。

当扫描电镜 (SEM) 出现真空泄漏时，会导致无法维持所需的真空度，影响成像质量和设备正常运行。