非导电样品在扫描电镜（SEM）下成像时，由于电子束轰击样品会导致电荷积累，进而产生充电效应，这可能导致图像畸变、漂移甚至无法成像。以下是几种常见的成像方法：

1. 金属镀膜

在样品表面沉积一层导电薄膜（如金、铂、铬、碳等），形成导电路径，使积累的电子逸散：

热蒸发镀膜（金、铂等，适用于生物样品）

磁控溅射镀膜（均匀度好，适用于细腻结构）

碳镀膜（适用于 EDS/EBSD，不影响成分分析）

适用情况：适用于大多数高分辨率成像需求，但可能影响表面微观结构。

2. 低真空模式（环境扫描电镜，ESEM）

使用低真空（10-100 Pa）或潮湿环境，引入水蒸气或气体，提升电子散射，从而中和充电：

适用于未经镀膜的样品（如生物样品、陶瓷、聚合物等）

保持样品原始形貌

但分辨率略低于高真空模式

适用情况：适用于不希望破坏样品表面的情况，如生物样品、聚合物等。

3. 低加速电压成像

降低电子束加速电压（如 < 5 kV），减少电子穿透深度，降低样品的电荷积累：

低电压模式可减少表面电荷积累

适用于较薄或较低密度的非导电样品

分辨率较高，但可能信噪比降低

适用情况：适用于无镀膜成像，但对信号采集要求较高。

4. 充电补偿器

在 SEM 中引入低能量电子枪（如负电荷补偿枪），向样品表面释放低能电子，中和积累的正电荷：

需要特定的设备支持

适用于一些情况下的无镀膜成像

适用情况：适用于超高精度成像，但成本较高。

5. 使用导电胶或银浆固定样品

用导电胶（碳胶、银胶）或铜导电胶带连接样品与 SEM 样品台

减少电荷积累，提高电子泄放

适用于小样品，但不适用于大面积均匀成像

适用情况：适用于大块样品或局部区域分析。

以上就是威尼斯886699小编分享的非导电样品在扫描电镜下如何成像的介绍。更多扫描电镜产品及价格请咨询15756003283(微信同号)。